勻膠顯影機 型號：SC100-DE
　　SC100-DE勻膠顯影機是一種既可用于精密勻膠操作，又可用于半導(dǎo)體顯影和清洗的臺面式設(shè)備，它可以實現(xiàn)價值百萬美元設(shè)備（track）的上才可能達到穩(wěn)定性和均勻性。 
 主要性能指標(biāo)： 
主機機箱采用不銹鋼材料（抗化學(xué)腐蝕易清潔）  
旋涂程序：多可存100組程序，每組100步，每個步驟可到0.1秒  
轉(zhuǎn)動速度：0-10,000rpm（更高速可選）  
旋涂加速度：0-50,000rpm/sec（空載）  
馬達旋涂轉(zhuǎn)速穩(wěn)定性能誤差 < ±1rpm  
轉(zhuǎn)速調(diào)節(jié)精度<1rpm，重復(fù)性< 1rpm  
工藝時間設(shè)定： 0-3,000 sec/step，時間設(shè)置精度：0.1sec  
支持wafer尺寸1cm-200mm（8“圓晶）  
標(biāo)準(zhǔn)配置兩路噴液系統(tǒng)（顯影液和去離子水）