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光學(xué)分析天平 雙盤(pán)機(jī)械天平

更新時(shí)間：2014-11-17      點(diǎn)擊次數(shù)：897


稱(chēng)量范圍：0~200G
分度值：0.5MG
稱(chēng)盤(pán)尺寸：75MM
外型尺寸：390*325*485MM
 

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