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詳細(xì)介紹
薄層成像掃描儀2002
儀器簡介
薄層2002型薄層成像掃描儀是同德公司為了滿足薄層色譜分析需要而設(shè)計的便攜式新產(chǎn)品,它的處理速度快和分辨率高,而且具有噪音小、線性好的特性。儀器由光源、光學(xué)采樣系統(tǒng)、薄層色譜色譜工作站三大部分組成,薄層色譜工作站是目前國內(nèi)開發(fā)的 軟件,對儀器可全自動的控制同時還可對薄層色譜斑點(diǎn)進(jìn)行定量處理.定量精度與進(jìn)口產(chǎn)品相近,滿足藥廠\高校日常分析的需要,省時省力是您實(shí)驗室的好助手。
薄層成像掃描儀2002
儀器參數(shù)
1.掃描方式:線性掃描,雙波長掃描,多通道掃描
2.光源:254/365nm紫外光源、400-750可見光源。
3.分辨率可達(dá)10um
4.重現(xiàn)性:≥99%
5. 檢測方式:反射法、熒光法。
6、算法:歸一法,內(nèi)標(biāo)法,外標(biāo)法(一點(diǎn)直線法,兩點(diǎn)曲線法),符合藥典要求。
7.軟件環(huán)境:WIN XP/2000/NT,
儀器特點(diǎn)
1. 有與單波長掃描,雙波長掃描,多通道掃描功能,
2.對TLC斑點(diǎn)進(jìn)行準(zhǔn)確定量, 測量Rf值.
3.對圖像可任意角度旋轉(zhuǎn),可對色彩亮度、飽和度、對比度進(jìn)行校正。
4. 可打印出峰位、Rf值、峰面積、含量、圖像的報告,符合分析要求
5. 人性化中文軟件操作界面,無*圖譜數(shù)據(jù)庫管理,
6.機(jī)內(nèi)配有圖文并茂的教學(xué)軟件,簡明方便,隨時調(diào)看
![]() | 產(chǎn)品名稱:氧化鋯氧量分析儀 回流焊爐氧分析儀 產(chǎn)品型號:ZO-802 |
氧化鋯氧量分析儀/回流焊爐氧分析儀型號:ZO-802
ZO-802型氧化鋯氧分析儀是采用新的氧化鋯檢測技術(shù)和微機(jī)技術(shù)開發(fā)的新型分析儀器??捎糜诳辗种频⒒ち鞒碳安A?、建材中氧含量的連續(xù)自動分析,也可用于電子行業(yè)保護(hù)氣體、磁性材料等高溫?zé)Y(jié)爐的保護(hù)性氣氛中氧含量的測量。其中專為回流焊爐、波峰焊爐設(shè)計的儀表,配有內(nèi)置采樣氣泵、外置過濾器和取樣管路。
儀器特點(diǎn):
· 選用優(yōu)質(zhì)氧化鋯檢測元件,具有壽命長,反應(yīng)快等特點(diǎn)。
· 采用大屏幕點(diǎn)陣液晶顯示,可同時顯示氧量、溫度、日期、時間等參數(shù)。
· 采用全中文人機(jī)對話菜單,操作直觀方便。
· 采用對流擴(kuò)散式結(jié)構(gòu),減少了流量對測量微量氧的影響。
· 儀器具有從微量到常量共四檔量程,量程自動轉(zhuǎn)換。
· 上、下限報警點(diǎn)能在全量程范圍內(nèi)任意設(shè)置。
· 具有無紙記錄儀功能,自動記錄氧濃度隨時間的變化曲線。
· 具有測量數(shù)據(jù)自動存貯功能,存貯的間隔時間由用戶設(shè)定。
· 具有0~10或4~20ma電流信號輸出。
· 儀器內(nèi)置進(jìn)口采樣泵。
· 儀器具有一個標(biāo)準(zhǔn)的RS232C通訊口,可以連接串口打印機(jī)與計算機(jī)實(shí)現(xiàn)雙向通訊。
技術(shù)指標(biāo):
· 測量范圍:0.1ppm~50%O2
· 自動量程換檔:0~500ppm、0~5000ppm、0~5%、0~50%共4擋(自動換擋)。
· 基本誤差:±2%FS
· 重復(fù)性誤差:≤1.5%
· 響應(yīng)時間:<30s
· 零點(diǎn)漂移:±2%FS/7d
· 量程漂移:±2%FS/7d
· 輸出信號:4~20mADC(允許外接負(fù)載<800Ω)
· 0~10mA DC(允許外接負(fù)載<1600Ω)
· 報警繼電器接點(diǎn)容量:220VAC/1A
· 功耗:≤50W
· 電源:220V±10%AC;50Hz±5%
· 環(huán)境溫度:0~40℃
· 相對濕度:不大于90%(冷凝除外)
· 大氣壓力:當(dāng)?shù)卮髿鈮毫?nbsp;
· 樣氣溫度:<100℃
· 樣氣壓力范圍:常壓或微壓
· 樣氣流量:500~700ml/min
· 儀器外型尺寸:240×150×280mm(寬×高×深)
· 安裝開孔尺寸:228×138mm
· 重量:約8kg
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